1 产品概述

EasyNano（イージーナノ）RMBⅡ 型是日本 AIMEX（アイメックス）株式会社面向研究开发、试作用途推出的小型批量式湿式珠磨机。只需将粉体、溶剂与研磨珠投入研磨罐并启动，即可完成研磨分散，官方以"第一台珠磨机从这里开始"定位，适合首次引入珠磨机并开展研磨条件検討的用户。

该机型以 30mL 起的小量处理能力著称，非常适合昂贵、稀少样品的研磨试验；整机采用 AC100V 电源、约一张 A3 纸的占地，为紧凑型桌上设备，可灵活安装于实验室与通风场所。

2 工作原理与结构特点

2.1 批量式湿式研磨原理

RMBⅡ 型为批量式（间歇式）湿式珠磨机：将粉体与溶剂混合成的浆料连同研磨珠一起投入研磨罐，罐内搅拌盘随主轴高速旋转，带动研磨珠在浆料中高速运动，通过珠与珠、珠与壁面的剪切与冲击作用将颗粒粉碎、分散至微米乃至纳米级。研磨机采用通过式结构，不使用送液泵，因此没有送液异常问题，任何人都能轻松进行研磨处理。

批量式运行的管理也较简单：处理时间即滞留时间，在设定周速后按运行按钮即可，适合快速比较珠径、周速与浆料配合等条件。

2.2 30 秒拆装与免维护

研磨腔构造简单、部品数量少，分解与组装约 30 秒即可完成，日常无需专门检查，想用即可立即使用。清洗时间短，在条件検討阶段可多次更换样品、反复试验；也可预备多个研磨罐，在处理的同时进行其他罐的清洗，进一步缩短试验周期。

2.3 研磨腔与研磨珠适配

对应研磨珠粒径为 φ0.03～2.0mm，φ2.0mm 以下的研磨珠均可使用，便于研究选择最合适的珠径。研磨罐提供 01/02/04/08 四种规格，标准投入量分别为 30mL、60mL、100mL、300mL 起，理论容量最大达 800mL；更换研磨罐即可切换处理量。

接液部件采用氧化锆、氮化硅、聚氨酯、SUS 不锈钢、玻璃（仅容器部分）等材质，可按处理物特性选配；研磨罐附带冷却夹套，处理温度可控，并支持按安全标准选用防爆式样。

2.4 高周速驱动

本体采用 0.75kW 变频器驱动电机，最高转速 5730rpm，最高周速可达 12m/s（因研磨罐规格而异），配合半密封盖实现研磨珠最大密度填充，在少量处理的同时兼顾处理效率，也便于研讨与生产条件一致的周速条件。

3 型号规格与选型

3.1 通用技术规格

3.2 研磨罐规格

QQ浏览器截图20260912162749.png

3.3 典型应用领域

4 应用场景

4.1 研磨条件検討

珠磨机研磨效果受珠径、珠填充率、搅拌器周速、供料流量、浆料配合（溶剂种类、粉体种类、分散剂、固形分浓度）等多个因素影响。RMBⅡ 型将検討项目收敛为珠径、周速与浆料配合三项，无需配管与泵等附带设备，30mL 即可展开试验，可快速锁定最优条件，避免在连续式设备上反复试错的成本。

4.2 昂贵稀少样品的少量处理

最小 30mL 的少量处理能力，使纳米材料、稀有化合物等高价值浆料能够在样品损耗极小的前提下完成研磨验证；需要更多量时，更换研磨罐即可将处理量提升至 300mL 规格。

4.3 从实验到量产

以 EasyNano 确定配方与研磨珠等条件后，可平滑迁移至生产机型：纳米粒子领域推荐 Neo-Alphamill 研磨机，微米・亚微米领域推荐实验室机型 Start Lab RMH，实现从条件検討到生产放大的顺畅衔接。

4.4 处理案例

以氧化铝浆料为例：采用 φ0.03mm 氧化锆研磨珠、周速 3.1m/s 处理，可将原料 D50 约 2.68μm 的颗粒在 300 分钟处理内降至 D50 约 19.6nm，实现纳米级分散，验证了该机型对纳米研磨目标的适用性。

5 使用与维护要点

操作步骤：将粉体、溶剂与研磨珠投入研磨罐，装到本体上设定周速后按运行按钮即可开始研磨；φ2.0mm 以下研磨珠均可使用。

珠分离：处理后使用专用研磨珠分离容器将珠子与浆料分离，回收浆料。

选配：按样品量与目标粒径选择研磨罐规格与珠径、周速；需要循环运行时，可连接连续循环运行单元（EC-05）实现循环运转。

清洗维护：分解・清洗・组装约 30 秒，日常无需专门检查；换样时用溶剂清洗研磨罐与搅拌部件即可。

安全：设备设急停按钮与旋转部件警告标识；在易发生火灾场所或使用有机溶剂时，须选用防爆式样（马达耐压防爆构造、控制箱空气加压式样等），并遵守现场安全规范。

6 结语

AIMEX EasyNano RMBⅡ 型以 30mL 少量处理、30 秒快拆结构、φ0.03～2.0mm 宽域珠径与最高 12m/s 周速为核心，把珠磨机条件検討简化为"珠径・周速・配合"三项变量，为研发试作提供了低门槛、高效率、可放大的实验室研磨方案；从二次电池材料到精细陶瓷、从油墨到光触媒，均可在此机型上快速验证纳米化工艺。