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森泽半导体行业专用仪器
森泽CMP抛光液用
半导体行业专用仪器

这是一种利用液力旋风器,从半导体晶圆和玻璃基板制造过程中产生的研磨废液中高精度地提取可重复使用的研磨材料的装置。
浆料回收系统概述
为了降低半导体晶圆和玻璃基板的制造成本,不妨采用浆料回收系统吧!
在半导体晶圆及玻璃基板的研磨、抛光过程中,如果能够从废弃的浆料中去除掉切割碎屑和加工产生的碎片,那么这些浆料就可以再次被利用。不过目前来说,要实现这一目标相当困难,因此为了保持研磨和抛光的效率以及加工精度,用过的浆料只能被丢弃。
这就导致了研磨和抛光过程的成本上升,同时还会产生大量的工业废弃物。
我们的浆料回收系统采用了液力旋风器技术。
该系统能够高效地去除加工碎屑和切割碎屑,可回收50~80%的磨料颗粒,从而帮助降低成本并减少废弃物。
※回收率会随着在研磨机上的使用批次次数而变化。
村田工业的浆料回收系统采用液体旋风分离器,故结构简单、占用空间小,成本较低。

引入浆料回收系统后,可带来以下成本优势。

| X10 | X50 | X90 | |
|---|---|---|---|
| 研磨废液 | 1.317 | 3.850 | 7.833 |
| 废弃浆液 | 0.870 | 1.626 | 3.250 |
| 回收浆液 | 4.122 | 6.206 | 9.288 |
| 新砥粒 | 3.840 | 6.527 | 10.883 |
※为适应不同的流量需求,我们提供了1根到30根装的不锈钢套管。套管的材质为SUS304和TR5-20,而30型套管则由SCS13材料制成。
导入案例
| 社名 | 工作 | 目的 |
|---|---|---|
| A社 | 水晶晶圆 | 拉普、抛光废液回收 |
| B社 | LCD玻璃基板 | 抛光废液回收 |
| C社 | HD玻璃基板 | 拉普废液回收 |
| D社 | 光学镜头 | 抛光废液回收 |
| E社 | 硅片 | 拉普废液回收 |
| F社 | 镓晶圆 | 拉普废液回收 |
※除了上述产品外,还有水晶振荡器,这些产品也被玻璃行业在内的众多客户所采用。
面向水晶振荡器制造商的封装浆料回收系统
以上仅是举例而已,实际上,处理流量、储罐容量等参数都需要通过协商来确定,之后再进行制作。回收对象研磨材 GC#1000 处理流量 2.5升/分钟 外形尺寸 W2100×D1200×H2100 重量 2000kg
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企业名称
深圳森泽工业品有限公司企业类型
信用代码
91440300MAKDH8EP3N法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围
日本村田工业MURATA 浆液回收系统 CMP抛光液在线回收再生设备由深圳森泽工业品有限公司提供,产地为日本,属于进口半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于食品/饮料、石油/化工、矿业/冶金、轻工业、能源等领域,日本村田工业MURATA 浆液回收系统 CMP抛光液在线回收再生设备凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分)。
根据森泽官方产品资料显示:日本村田工业MURATA 浆液回收系统 CMP抛光液在线回收再生设备的价格为300元,具体型号是CMP抛光液用。
| 产品名称 | 品牌 | 型号 | 产地类型 | 价格 |
|---|---|---|---|---|
| 日本 Micro‑tec ESC‑500 静电夹具专用丝网印刷机 半导体静电卡盘 | ESC‑500 | 进口 | 300元 | |
| 日本SWAN 超极薄钢纸 精密模具间隙调整超薄垫片钢材 | SWAN牌 | 进口 | 300元 | |
| 日本 NEOARK 晶圆用垂直磁特性评估装置 12寸晶圆 MTJ膜 | 12寸晶圆 MTJ膜 | 进口 | 300元 |
